中端國產光刻機的誕生標志著中國在半導體制造領域的重要進展。光刻機是半導體制造過程中的關鍵設備，用于將芯片的電路圖案投射到硅片上。傳統上，全球主要的光刻機供應商都集中在美國、歐洲和日本等發達國家，中國一直依賴進口光刻機來滿足國內芯片制造需求。然而，隨著中國對半導體自給自足的追求和技術實力的提升，中國開始投入大量資源和努力來發展自己的光刻機制造能力。

中端國產光刻機誕生主要是上海微電子的90nm光刻機，90nm光刻機經過兩次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。當然，隨著曝光次數越多，良品率會越來越低，因此此光刻機主要集中在中端領域，此光刻機在2007年就研發出來了，但是到了2018年才實現量產，可見光刻機每一步都很艱難，截止至目前，我國量產的光刻機仍然停留在90nm。

很多人說要彎道超車，但是在光刻機這種技術非常復雜的設備上，我們也只能一步一步來，希望中國有朝一日也能量產出7nm的EUV光刻機。